Ultraschallreinigungseinrichtungen für industrielle Zwecke, Plasma- und Ionenstrahlsysteme zum Entfetten und Aktivieren (Reinigen) von Oberflächen, Mikrostrukturierung und Fotolack entfernen in der Mikroelektronik/Halbleitertechnik
Beschichtungs- und Ätzanlagen für die Halbleitertechnik, Ionenstrahlquellen, Epitaxie-Anlagen, Kristallziehanlagen, Waferläppmaschinen, Wafertrennmaschinen